磷化铟

磷化铟化学性质

熔点 : 1070°C 密度 : 4,787 g/cm3 form : pieces Merck : 14,4953 CAS 数据库: 22398-80-7(CAS DataBase Reference)

安全信息

危险品标志 : T 安全说明 : 24/25-45-53 危险品运输编号 : 3288 WGK Germany : 3 RTECS号: NL1800000 TSCA : Yes

磷化铟 性质、用途与生产工艺

化学性质  具有沥青光泽的深灰色晶体。熔点1070℃。熔点下离解压为2.75 Mpa。极微溶于无机酸。介电常数：10.8。电子迁移率：约4600 cm2/V?s。空穴迁移率：约150 cm2/V?s。具有半导体的特性。 用途  用作半导体材料，用于光纤通讯技术，需要1.1～1.6μm范围内的光源和接受器。在 InP衬底上生长In-GaAsP双异质结激光器既能满足晶格匹配，又能满足波长范围的要求。 生产方法  用高压单晶炉制备磷化铟单晶是最主要的方法，并用掺等电子杂质的方法降低晶体的位错密度。而气相外延，多采用In-PCl3-H2系统的歧化法，在该工艺中用铟(99.9999%)和三氯化磷(99.999%)之间的反应来生长磷化铟层。 气相外延将石英反应管放在双温区电炉中，已净化的高纯氢气经计量通入，氢气也用来稀释三氯化磷，此时彭泡器保持在0℃，通过反应管内的氢气线速度为14 cm/min。外延生长分为诱个阶段进行。 在第一阶段，将盛有铟的石英舟放在电炉中源区，通入氢气并加热到700～850℃，再用氢气将三氯化磷引入，在铟源上方被还原成磷蒸气和氯化氢。镉化氢与铟反应生成一氯化铟蒸气在管中迁移。磷溶解在铟中直至饱和为止。 在第二阶段，铟源保持在原位置不加热，单晶衬底放在电炉的第二加温区后，在氢气氛下加热到600～750℃。首先用氢气将三氯化磷引入到管内对衬底进行气相腐蚀，清洗衬底表面。再将氢气直接引入反应管，并把源加热到它的过饱和温度(在操作中此温度比衬底晶体的温度高100℃)。然后通过氢气鼓泡将三氯化磷引入，这时磷蒸气与在源区生成的一氯化铟反应，在衬底上淀积生长出磷化铟层。当外延生长完成后，向系统中通入纯氢气，将两个温区冷却到室温，取出产物，制得磷化铟成品。 类别 有毒物品 可燃性危险特性 高热产生有毒磷氧化物烟雾 储运特性 库房通风低温干燥 灭火剂 干粉、泡沫、砂土、二氧化碳, 雾状水 职业标准 TWA 0.1 毫克 (铟)/立方米

磷化铟 上下游产品信息

上游原料 电子 三氯化磷 二氧化硅 高纯 铟

下游产品

磷化铟 试剂级价格 更新日期 产品编号 产品名称 CAS编号 包装 价格 2010/05/25 13974 磷化铟, 99.9999% (metals basis) Indium(III) phosphide, 99.9999% (metals basis) 22398-80-7 1g 2338元 2010/05/25 36283 磷化铟, 99.999% (metals basis) Indium(III) phosphide, 99.999% (metals basis) 22398-80-7 5g 12796元

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